Mo-1 / TZM ≥99,95 % · planar & rotierend · ASTM B386

Molybdän-Sputtertarget

Molybdän-Sputtertargets dienen als Elektroden- und Leitermaterial in Flachbildschirmen, Dünnschicht-Solarzellen und als Barriereschicht in Halbleitern — dank hohem Schmelzpunkt, hoher Leitfähigkeit, niedrigem spezifischen Widerstand und guter Korrosionsbeständigkeit. Planar und rotierend, in reinem Mo (Mo-1) und TZM, mit enger Korn-, Rauheits- und Ebenheitskontrolle.

Mo-1 / TZM ≥99,95 %planar & rotierendRa ≤0,4 µm · Ebenheit <4 µmASTM B386

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Molybdän-Sputtertarget – Fotos

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Spezifikationen

Maße & technische Daten

Fertigungsbereich

Typ	Maße (mm)
Rotierendes Target (AD × ID × L)	Φ140 – 180 × Φ125 – 135 × 100 – 3300
Planar – rechteckig (L × B × D)	10 – 3000 × 10 – 800 × 1,0 – 50,8
Planar – rund (Ø × D)	Ø10 – 1000 × 1,0 – 100

Kennwerte

Zusammensetzung	Molybdän (Mo-1 · TZM)
Reinheit	≥ 99,95 %
Dichte	10,2 g/cm³
Korngröße	≤ 100 µm² (oder nach Vorgabe)
Rauheit	Ra ≤ 0,4 µm
Ebenheitstoleranz	< 4 µm
Norm	ASTM B386

Physikalische & chemische Eigenschaften

Ordnungszahl	42
CAS-Nummer	7439-98-7
Atommasse	95,94 g/mol
Schmelzpunkt	2620 °C
Siedepunkt	4639 °C
Dichte (20 °C)	10,22 g/cm³
Kristallstruktur	kubisch-raumzentriert
Wärmeausdehnung (20 °C)	5,2 × 10⁻⁶ m/(m·K)
Wärmeleitfähigkeit (20 °C)	142 W/(m·K)
Spezifische Wärme (20 °C)	0,25 J/(g·K)
Elektrische Leitfähigkeit (20 °C)	17,9 × 10⁶ S/m
Spezifischer Widerstand (20 °C)	0,056 (Ω·mm²)/m

Produktionsprozess

So wird es gefertigt

Pulvermischung

Mo-Pulver auf Güte gemischt.

Isostatisches Pressen

Kaltisostatisches Pressen.

Sintern

Mittelfrequenz-Sinterofen.

Bearbeiten & Finish

Auf Rauheit / Ebenheit bearbeitet.

Anwendungen

Wo Molybdän-Sputtertarget eingesetzt wird

Flachbildschirme

Elektroden- und Leitermaterial für FPD und TFT-LCD.

Dünnschicht-Solar

Rückkontakt- und Elektrodenschichten für Dünnschicht-PV.

Halbleiter

Barriereschicht-Material für Halbleiterbauelemente.

Funktionsschichten

Targets für Sensoren, FED und funktionale Dünnschichten.

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